Acona LE Mini在线液体颗粒计数器

Acona LE Mini 面向 POU(Point of Use)在线场景,针对 CMP slurry(研磨液) 等高价值工艺液的颗粒风险控制需求,提高过滤器的利用率,提高过滤器的使用寿命,减少宕机时间。 基于 SPOS单颗粒计数原理,提供可用于过程控制的颗粒趋势与阈值统计结果。

在 CMP 工艺中,LPC(Large Particle Count,大颗粒数量) 常用于表征尾端大颗粒风险。 LE Mini 支持在过滤前/过滤后/输送末端等关键节点进行在线监测,为过滤优化、异常预警与放行决策提供数据支撑。

【适用对象与场景】

  • CMP slurry 生产商:出厂质量控制、批间一致性、储存/混配过程监控。
  • SDS(Slurry Delivery System)集成商:输送系统在线质量监测、报警联动、维护窗口优化。
  • 晶圆厂 CMP 产线:POU 端放行前监测、过滤器更换(filter changeouts)评估、异常追溯。

【POU 在线部署建议】

POU 的目标不是“做一次检测”,而是让数据直接服务于过程控制。典型部署点位包括:

  • 过滤前:建立来料与混配后基线,识别上游波动对 LPC 的影响。
  • 过滤后:验证过滤效果与过滤器状态,形成更换前后的特征曲线。
  • SDS 输送末端(Tool 端):监控输送链路对尾端大颗粒(LPC)的影响,捕捉末端异常。
图1:CMP slurry 在储存-混合-输送-过滤-POU 节点的典型旁路在线监测示意(示意图)
图1:CMP slurry 在储存-混合-输送-过滤-POU 节点的典型旁路在线监测示意(示意图)

【核心技术与系统设计】

1)SPOS 单颗粒计数

采用 SPOS(光阻/光消减)逐颗粒计数机制,输出可用于过程控制的粒径分布与阈值统计结果, 面向 CMP slurry 的尾端大颗粒风险(LPC)提供可量化的数据依据。

2)在线稳定性设计

面向在线连续或定时采样使用需求,可按工况选配稳流、回压、脱泡、保护过滤与冲洗等组件, 用于降低气泡/波动对趋势数据的影响,并提升长期运行的可维护性与可重复性。

3)模块化旁路流路

旁路取样—检测—回流/排放路径可配置,便于匹配不同现场管路与工艺窗口。对于高价值 slurry, 在不改变主流程的前提下完成在线颗粒监测与风险前移。

4)集成与联动 

提供通讯与报警接口(按配置),用于对接 SDS 系统或上位机,实现在线数据归档、超限预警与维护事件关联分析。

产品参数

检测原理

基于单颗粒光学传感器技术的光阻法 (SPOS) + 光散射法

测量范围

0.5 - 400 μm

通道数量

1024 个标准通道(支持任意自定义通道)

精度

1 μm PSL标准粒子粒径平均值±10%

最小样本量

10 mL

稀释系统

自动稀释系统

样品浓度限值

1011 个/mL

电源要求

3相电源插座(IEC C14插座)、100至240VAC最大功率5安培

压缩空气或气体要求

1/4’’push on、3.5至5.6 kg/cm2、50至80 psi

进水要求

1/4’’flare、1.8 to 2.5 kg/cm2、25至35 psi

进样要求

1/4’’flare、0.2 to 2.1 kg/cm2、3至30 psi

排液

1/4’’flare、零压力排放

常见问题 | FAQ

Q1:POU 在线监测适合放在哪些位置?
A:通常部署在过滤前/过滤后、混配后、SDS 输送末端(Tool 端)等 POU 节点,用于在线观察 CMP slurry 的 LPC 趋势与阈值统计。

Q2:CMP slurry 的 LPC 指什么?
A:LPC(Large Particle Count)通常指超过某一阈值粒径的大颗粒数量(如 >0.5 μm、>1 μm、>5 μm 等,按内控定义)。 在 CMP 工艺中,LPC 的异常上升常与划痕风险、过滤状态与输送工况相关。

  Q3:在线数据可以用于什么决策?
  A:用于过滤器更换(filter changeouts)优化、SDS 工况调整、异常批次隔离、以及 POU 放行判定的趋势依据。

 

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Acona LE Mini 面向 POU(Point of Use)在线场景,用于 CMP slurry(研磨液)等高价值工艺液的颗粒风险控制。基于 SPOS 单颗粒计数原理,输出颗粒趋势与 LPC(Large Particle Count)阈值统计,支持过滤前/过滤后/输送末端(Tool 端)关键节点监测,服务过滤优化、异常预警与放行决策,并支持与产线系统通讯集成
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